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基于钌的极紫外光刻相移掩模板的研究设计

批准号：
QN25F040004
项目类别：
省市级项目
资助金额：
万元
负责人：
XIAOWEN
依托单位：
浙江大学绍兴研究院
学科分类：
无机非金属材料
结题年份：
--
批准年份：
2025
项目状态：
未结题
项目参与者：
XIAOWEN
关键词：
钌 极紫外光刻 相移掩模板 无机非金属材料 纳米制造

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