直接带隙In2Se3、GaTe纳米片/MoS2复合薄膜的制备及饱和吸收性能的研究
批准号：
2020A151501861
项目类别：
省市级项目
资助金额：
10.0 万元
负责人：
龙慧
依托单位：
学科分类：
有机高分子材料
结题年份：
--
批准年份：
2020
项目状态：
未结题
项目参与者：
龙慧
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批准年份：2020
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负责人：龙慧
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依托单位：
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海外基金