Sub-Micrometer Photochromic Patterns using Laser Induced Molecular Implantation Techniques (LIMIT)
Sub-Micrometer Photochromic Patterns using Laser Induced Molecular Implantation Techniques (LIMIT)
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使用激光诱导分子植入技术的亚微米光致变色图案（LIMIT）
DOI：
10.1080/10587250008023935
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Irie
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Hobley;M. Goto;M. Kishimoto;H. Fukumura;H. Uji‐i;M. Irie
摘要LIMIT是一种在聚合物薄膜中产生高空间选择性分子图案的新方法。使用干涉调制注入，现在可以实现<800 nm尺寸的光致变色注入。以这种方式，已经制造了作为光开关光学器件操作的植入衍射光栅。在这里，我们报告了四种不同类型的有机光致变色分子的注入。
Abstract LIMIT is a new approach for creating highly space selective patterns of molecules in thin polymer films. Photochromic implants of <800 nm dimensions are now possible using interference modulated implantation. In this way implanted diffraction gratings have been made which operate as photo-switching optical devices. Here we report the implantation of four different classes of organic photochromic molecule.