The role of metal and passivation defects in electromigration-induced damage in thin film conductors
The role of metal and passivation defects in electromigration-induced damage in thin film conductors
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金属和钝化缺陷在薄膜导体电迁移引起的损伤中的作用
DOI：
10.1016/0040-6090(82)90144-4
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发表时间：
1982
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
G. Prokop
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Lloyd;P. Smith;G. Prokop
