秘密意匠制度に関する一考察―その効果をめぐって

秘密意匠制度に関する一考察―その効果をめぐって
复制标题

秘密设计系统研究——其影响

DOI:
--
复制
发表时间:
2020
期刊:
同志社大学知的財産法研究会編『知的財産法の挑戦Ⅱ』(弘文堂)
影响因子:
--
通讯作者:
青木大也
青木大也
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
IMAMURA TETSUYA;Minori KOKADO;青木大也

文献摘要

相似文献