Precise thickness monitoring of EUV multilayer mirror fabrication by an ellipsometric thickness monitor
Precise thickness monitoring of EUV multilayer mirror fabrication by an ellipsometric thickness monitor
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通过椭圆厚度监测仪对 EUV 多层反射镜制造进行精确厚度监测
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Tsuru
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. S. Hayano;R. S. Hayano;M. Toyoda;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. S. Hayano;M. Yamamoto;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. S. Hayano;M. Hori;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. Fuankoshi;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. S. Hayano;M. Yamamoto;R. S. Hayano;R. S. Hayano;R. S. Hayano;T. Harada;R. S. Hayano;T. Tsuru
