CHARACTERIZATION OF SURFACES BY GRAZING X-RAY REFLECTION - APPLICATION TO STUDY OF POLISHING OF SOME SILICATE-GLASSES
CHARACTERIZATION OF SURFACES BY GRAZING X-RAY REFLECTION - APPLICATION TO STUDY OF POLISHING OF SOME SILICATE-GLASSES
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DOI：
10.1051/rphysap:01980001503076100
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发表时间：
1980-01-01
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
CROCE, P
中科院分区：
文献类型：
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作者：
NEVOT, L;CROCE, P
为了解释表面粗糙度和局部变化的体介电常数n2（由于材料成分或压实的变化）对掠射x射线反射的影响，阐述了一个理论。假设表面高度具有高斯分布，并且n2仅与从辐照表面的平均平面测量的深度有关，推导出一个显式公式。对悬浮在水中的各种氧化物在沥青工具上机械抛光的硅酸盐玻璃的分析表明，抛光层总是由两个分离良好的区域组成。第一种是外层，厚度不超过几纳米，密度低于体块，可能是抛光过程中塑料蠕变和水解的结果。第二层是延伸至数十纳米的底层，要么是致密化过程的结果，如在纯硅或铝硅酸盐玻璃中，要么是高碱性硅酸盐玻璃中的耗尽过程。抛光时间和所用氧化物以及后期热处理的影响与表征两层的参数相关。3 . <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1>（例如：<s:1> <s:1> <s:1>）和<s:1> <s:1> <s:1> <s:1>（例如：<s:1> <s:1> <s:1> <s:1>） - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - -L'analyse des verres silicatsamis polis msamicicement sur polissoir en poix, L 'aide de suspenses aquuses d' oxidesdivers， L' acimicement que la couche de polisage se compose en recamisalitaere de deux zones bien distinctes。La premiires, tout fait surfacicielle, l'升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职升职La seconde, sous-jacente, s‘ s <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> (<s:1>)和’angströms et met en jeu - un工艺（硅纯铝硅酸铝）土壤致密化（verres sassez forte teneur en ions alcalins）。目前研究的主要内容有：<s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> <s:1> (<s:1>) - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - -。
A theory is elaborated in order to explain the effects of surface roughness and locally varying bulk dielectric constant n2 (due to changes either in composition or in compaction of the material) upon grazing X-ray reflection. An explicit formulation is derived assuming that surface heights have a gaussian distribution and n2 is only related to depth as measured from the mean plane of the irradiated surface. Analysis of silicate glasses mechanically polished on a pitch tool, with various oxides suspended in water, shows that the polish layer always consists in two well separated zones. The first one is the outer layer, non exceeding a few nanometers in thickness, has a density lower than of the bulk and might be due to both plastic creeping and hydrolysis during the polishing process. The second is the underlying layer which extends up to tens of nanometers and results either from a densification process, as in pure silica or alumino silicate glasses, or from a depletion process as in high alkaline silicate glasses. The effects of time in polishing and of the oxides used as well as later heat treatments are examined in correlation with the parameters characterizing both layers.RésuméLa théorie présentée permet d'obtenir une formulation explicite de l'influence des rugosités ainsi que des variations locales de constante diélectrique n2 (dues par exemple à une modification de composition ou de compacité) sur la réflexion rasante d'un faisceau de rayons X monochromatique, dans la mesure où les rugosités relèvent d'une distribution gaussienne et à condition que n2 ne dépende que de la profondeur Z par rapport au plan moyen de la surface éclairée. L'analyse des verres silicatés polis mécaniquement sur polissoir en poix, à l'aide de suspensions aqueuses d'oxydes divers, révèle que la couche de polissage se compose en réalité de deux zones bien distinctes. La première, tout à fait superficielle, l'épaisseur ne dépassant pas quelques dizaines d'angströms, présente une densité toujours inférieure à celle du coeur de l'échantillon et semble imputable au fluage plastique et à l'hydrolyse de la surface pendant le polissage. La seconde, sous-jacente, s' étend au contraire sur plusieurs centaines d'angströms et met en jeu un processus soit de densification (silice pure, alumino-silicate) soit de lacunisation (verres à assez forte teneur en ions alcalins). Nous examinons également l'influence de la durée du polissage, du type d'oxyde utilisé, et (ou) des traitements thermiques effectués après polissage, sur les divers paramètres qui caractérisent ces couches.