両面研磨加工における加工物-上定盤間の研磨液挙動の検討
両面研磨加工における加工物-上定盤間の研磨液挙動の検討
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双面抛光时工件与上平台间抛光液行为研究
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
細川 晃
中科院分区：
文献类型：
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作者：
佐々木 友也;橋本 洋平;古本 達明;山口 貢;江面 篤志;小谷野 智広;阿部 諭;細川 晃
