M.Otobe: "Selective Etching of Hydrogenated Amorphous Silicon by Hydrogen Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 33(印刷中). (1994)
M.Otobe: "Selective Etching of Hydrogenated Amorphous Silicon by Hydrogen Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 33(印刷中). (1994)
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M.Otobe：“氢等离子体选择性蚀刻氢化非晶硅”，《日本应用物理学杂志》33（出版中）。
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