Deposition of titanium oxide and titanium carbide containing thin carbon films in a plasma activated process
Deposition of titanium oxide and titanium carbide containing thin carbon films in a plasma activated process
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在等离子体激活工艺中沉积含有碳薄膜的氧化钛和碳化钛
DOI：
10.1016/s0925-9635(98)00288-x
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发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
C. Benndorf
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Stricker;W. Luithardt;C. Benndorf
