2P094減圧熱ＣＶＤを用いたＴＥＯＳからのＳｉＯ２薄膜の合成
2P094減圧熱ＣＶＤを用いたＴＥＯＳからのＳｉＯ２薄膜の合成
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2P094使用低压热CVD从TEOS合成SiO2薄膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐藤恒之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
木村雪花;佐藤恒之
