D.Muto et al.: "Atomically Controlled Silane Reaction on Si(100) Using Ar Plasma Irradiation without Substrate Heating"3rd Int.Conf. on SiGe(C) Epitaxy and Heterostructures (ICSI3). 59-61 (2003)
D.Muto et al.: "Atomically Controlled Silane Reaction on Si(100) Using Ar Plasma Irradiation without Substrate Heating"3rd Int.Conf. on SiGe(C) Epitaxy and Heterostructures (ICSI3). 59-61 (2003)
复制标题
D.Muto 等人：“在不加热基材的情况下使用 Ar 等离子体辐射对 Si(100) 进行原子控制的硅烷反应”第 3 届国际会议。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
