Y.K.Lee,N.Fujumura,T.Ito,N.Nishida: "Annealing Behavior of AlーYAlloy Film for Interconnection Condnctor in Microelectronic Devices" J.Vac.Sci.& Tech.B. 9. 2542-2547 (1991)
Y.K.Lee,N.Fujumura,T.Ito,N.Nishida: "Annealing Behavior of AlーYAlloy Film for Interconnection Condnctor in Microelectronic Devices" J.Vac.Sci.& Tech.B. 9. 2542-2547 (1991)
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Y.K.Lee、N.Fujumura、T.Ito、N.Nishida：“微电子器件中互连导体的铝合金薄膜的退火行为”J.Vac.Sci.& Tech.B 9. 2542-2547 (1991)
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