Y.Ohki et al.: "Effects of internal post-oxidation on the oxygen deficiency and dielectric strength of buried oxide formed by the separation-by-implated-oxygen(SIMOX)process"Electrical Engineering in Japan. 130. 15-20 (2000)
Y.Ohki et al.: "Effects of internal post-oxidation on the oxygen deficiency and dielectric strength of buried oxide formed by the separation-by-implated-oxygen(SIMOX)process"Electrical Engineering in Japan. 130. 15-20 (2000)
复制标题
Y.Ohki 等人：“内部后氧化对注入氧分离 (SIMOX) 工艺形成的埋入氧化物的缺氧和介电强度的影响”日本电气工程。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
