Oxidation dependent crystallization behaviour of IO and ITO thin films deposited by reactive thermal deposition technique
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DOI：
10.1016/s0921-5107(98)00209-8
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发表时间：
1998-09
影响因子：
3.6
通讯作者：
P. Thilakan;J. Kumar
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Thilakan;J. Kumar
