次世代メートルサイズ大面積プロセス用プラズマ源
次世代メートルサイズ大面積プロセス用プラズマ源
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适用于大面积工艺的下一代米级等离子体源
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
節原裕一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Mano;O.Sugiyama;Y.Shibuya;H.Nakayama;O.Takai;Y.Setsuhara;Y.Setsuhara;Kosuke TAKENAKA;Hiroshige DEGUCHI;Y.Setsuhara;Y.Setsuhara;H.Deguchi;節原裕一;節原裕一
