Reactive magnetron sputtering of Si–C–N films with controlled mechanical and optical properties
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DOI：
10.1016/s0925-9635(03)00078-5
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发表时间：
2003-08
影响因子：
4.1
通讯作者：
J. Vlček;M. Kormunda;J. Cizek;Z. Soukup;V. Peřina;J. Zemek
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Vlček;M. Kormunda;J. Cizek;Z. Soukup;V. Peřina;J. Zemek
