高輝度放射光を用いたオペランド顕微分光による材料とデバイスのギャップの橋渡し
高輝度放射光を用いたオペランド顕微分光による材料とデバイスのギャップの橋渡し
复制标题
使用高强度同步辐射的操作显微光谱学弥合材料和设备之间的差距
DOI：
--
复制
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
吹留博一
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y. Kuwahara;M. Kaji;J. Okada;S-N. Kim;T. Ogata;S. Kurihara;大本 崇弘,内田 哲也;櫻井敏彦;吹留博一
