Field-emission studies of boron-doped CVD diamond films following surface treatments
Field-emission studies of boron-doped CVD diamond films following surface treatments
复制标题
表面处理后掺硼 CVD 金刚石薄膜的场发射研究
DOI：
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发表时间：
1997
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Butler
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Fox;S. Mary;T. Davis;W. Wang;P. May;A. Bewick;J. Steeds;J. Butler
