8mm角CVDダイヤモンド基板上にホモエピタキシャル成長した試料の電荷キャリア輸送特性の位置依存
8mm角CVDダイヤモンド基板上にホモエピタキシャル成長した試料の電荷キャリア輸送特性の位置依存
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在 8 mm 方形 CVD 金刚石基板上同质外延生长的样品的电荷载流子传输特性的位置依赖性
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平野慎太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
平野慎太郎
