Three-Dimensional Resist-Coating Technique and Nanopatterning On a Cube Using Electron-Beam Lithography and Etching
Three-Dimensional Resist-Coating Technique and Nanopatterning On a Cube Using Electron-Beam Lithography and Etching
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使用电子束光刻和蚀刻在立方体上进行三维抗蚀剂涂层技术和纳米图案化
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Yamazaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kim Dong WOOK;Kazushi NISHIMOTO;Yusuke KAWAKAMI;Susumu KUNIFUJI;D.Shindo et al.;M. Sato;K.Yamazaki
