Characterization of Si(100)/HfSiON interface
Characterization of Si(100)/HfSiON interface
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Si(100)/HfSiON 界面的表征
DOI：
10.1016/j.nimb.2004.01.175
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发表时间：
2004
影响因子：
1.3
通讯作者：
M. Takenaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masamichi Suzuki;A. Takashima;M. Koyama;R. Iijima;T. Ino;M. Takenaka
