The structure and magnetic properties of FeNiN films
The structure and magnetic properties of FeNiN films
复制标题
FeNiN薄膜的结构与磁性能
DOI：
10.1063/1.1432121
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发表时间：
2002-01
影响因子：
3.2
通讯作者：
H. Y. Wang et al
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H. Y. Wang et al
采用双离子束溅射法在氮气-氩气混合气体中制备了Ni含量为0- 56at%的FeNiN薄膜。研究了氮和镍浓度对FeNiN薄膜结构和磁性能的影响。FeNiN薄膜
FeNiN films with 0–56 at % Ni concentrations were prepared by dual ion beam sputtering in a nitrogen–argon gas mixture. Effects of nitrogen and nickel concentrations on the structure and magnetic properties of FeNiN films have been studied. FeNiN films wi
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影响因子：
2.7
作者：
E. Colombo;G. Fratucello;F. Ronconi
通讯作者：
E. Colombo;G. Fratucello;F. Ronconi
DOI：
10.1002/pssb.19660160240
发表时间：
1966-12
期刊：
August 1, 1966
影响因子：
--
作者：
S. Sidorov;A. Doroshenko
通讯作者：
S. Sidorov;A. Doroshenko
影响因子：
2.7
作者：
G. Dumpich;E. Wassermann;V. Manns;W. Keune;S. Murayama;Y. Miyako
通讯作者：
G. Dumpich;E. Wassermann;V. Manns;W. Keune;S. Murayama;Y. Miyako
DOI：
10.1088/0305-4608/10/4/025
发表时间：
1980-04
期刊：
Journal of Physics F: Metal Physics
影响因子：
--
作者：
T. Sohmura;F. Fujita
通讯作者：
T. Sohmura;F. Fujita
DOI：
10.1063/1.358431
发表时间：
1994-11
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
M. Takahashi;H. Shoji;Hironobu Takahashi;H. Nashi;T. Wakiyama;M. Doi;M. Matsui
通讯作者：
M. Takahashi;H. Shoji;Hironobu Takahashi;H. Nashi;T. Wakiyama;M. Doi;M. Matsui