レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛 (AZO) 膜のレーザーアニールによる特性改善
レーザーアブレーション法により作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛 (AZO) 膜のレーザーアニールによる特性改善
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激光退火提高激光烧蚀法制备的铝掺杂氧化锌（AZO）薄膜的性能
DOI：
10.3131/jvsj.48.169
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
昌宏 奥田
中科院分区：
文献类型：
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作者：
茂靖 甫木;晶雄 鈴木;孝憲 青木;辰彦 松下;昌宏 奥田
采用ArF激光脉冲沉积技术，在0.1Pa的氧气中，在玻璃衬底上制备了掺有1.5wt%Al_2O_3的氧化锌薄膜(λ=193 nm)。当沉积时，重复频率为10赫兹，能量密度为4J/cm2，照射时间为30min。在能量密度为10∼~(40)mJ/cm~2的条件下，经过30min的热处理，薄膜的电阻率从1.2 6×10-3Ω·cm降至9.5 8×10-4Ω·cm，表面粗糙度Ra从2.1 nm降至1.8 nm。
ZnO films doped with 1.5 wt% Al2O3 (AZO films) have been deposited, in oxygen with a partial pressure of 0.1 Pa, on glass substrate using a pulsed laser deposition technique with an ArF laser (λ = 193 nm). When as-deposited, a repetition rate of 10 Hz, an energy density of 4 J/cm2, and an irradiation time of 30 min were used. After an annealing performed with the energy density 10∼40 mJ/cm2 for 30 min, it was found that resistivity decreased from 1.26×10-3 Ω · cm to 9.58×10-4 Ω · cm and surface roughness of the films Ra decreased from 2.1 nm to 1.8 nm.