無電極ランプを熱源とした加熱装置によるリンイオン注入300 mm径シリコン基板の活性化
無電極ランプを熱源とした加熱装置によるリンイオン注入300 mm径シリコン基板の活性化
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使用无极灯作为热源的加热装置通过磷离子注入激活直径 300 mm 的硅基板
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
上野 智雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
宮崎 智由;鮫島 俊之;齋藤 宗平;小野寺 航;上原 琢磨;有馬 卓司;蓮見 真彦;小林 剛;芹澤 和泉;久保 若菜;上野 智雄
