Deposition of β-Ga2O3 films by atmospheric pressure plasma enhanced CVD
Deposition of β-Ga2O3 films by atmospheric pressure plasma enhanced CVD
复制标题
常压等离子体增强CVD沉积β-Ga2O3薄膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and N. Fujimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kiguchi;Y. Nose;T. Uehara;and N. Fujimura
