Metal–Dielectric Diffusion Processes: Fundamentals
Metal–Dielectric Diffusion Processes: Fundamentals
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金属-电介质扩散过程：基础知识
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发表时间：
2012
期刊：
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通讯作者：
T. Lu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. He;T. Lu
有两种主要的机制，金属物种可以迁移到金属。一种是在升高的温度下由金属浓度梯度驱动的金属原子的扩散。另一种是金属离子在外加电场作用下的漂移。在后一种情况下，必须在金属-电介质界面处产生金属离子以使漂移开始。金属离子产生的起源与金属和电介质之间在其界面处的化学相互作用有关。例如，如果在界面处存在氧化剂，则可以形成金属氧化物。在这一章中，我们试图描述一个连贯的治疗离子的产生和漂移的基础上发生在金属-电介质界面的热化学。评述了原子扩散和离子漂移的基本公式。
There are two main mechanisms by which metal species can migrate into dielectrics. One is diffusion of metal atoms at an elevated temperature driven by the metal concentration gradient. The other is drift of metal-ions as a result of an external electric field. In the latter case, metal-ions have to be generated at the metal–dielectric interface for the drift to begin. The origin of metal-ion generation is related to the chemical interaction between the metal and the dielectric at their interface. For example, a metal oxide may be formed if there is an oxidant residing at the interface. In this chapter, we attempt to describe a coherent treatment of ion generation and drift based on the thermochemistry that occurs at the metal–dielectric interface. The basic formulation of atomic diffusion and ionic drift is reviewed.