In situ high-temperature X-ray diffraction measurements of Pb(Zr<sub>0.58</sub>Ti<sub>0.42</sub>)O<sub>3</sub> epitaxial thin films grown on Si substrates
In situ high-temperature X-ray diffraction measurements of Pb(Zr<sub>0.58</sub>Ti<sub>0.42</sub>)O<sub>3</sub> epitaxial thin films grown on Si substrates
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Si衬底上生长的Pb(Zr<sub>0.58</sub>Ti<sub>0.42</sub>)O<sub>3</sub>外延薄膜的原位高温X射线衍射测量
DOI：
10.35848/1347-4065/ac7f7c
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发表时间：
2022
影响因子：
1.5
通讯作者：
Kanno Isaku
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kimura Goki;Kweon Sang Hyo;Tanaka Kiyotaka;Tan Goon;Koganezawa Tomoyuki;Kanno Isaku
