Growth from the edges and inclusion defect of KDP crystal
Growth from the edges and inclusion defect of KDP crystal
复制标题
KDP晶体的边缘生长和夹杂缺陷
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2008.09.186
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发表时间：
2009-01
影响因子：
1.8
通讯作者：
Teng, Bing
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yu, Zhenghe;Li, Xiaobing;Zhao, Yanshuai;Chen, Sha'ou;Wang, Dongjuan;Wang, Qingguo;Zhong, Degao;Yu, Tao;Teng, Bing
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影响因子：
1.8
作者：
N. Zaitseva;I. Smolsky;L. Carman
通讯作者：
N. Zaitseva;I. Smolsky;L. Carman
影响因子：
1.8
作者：
Thomas, TN;Land, TA;DeYoreo, JJ
通讯作者：
DeYoreo, JJ
影响因子：
1.8
作者：
K. Sangwal;J. Borc;T. Pałczyńska
通讯作者：
K. Sangwal;J. Borc;T. Pałczyńska
影响因子：
1.8
作者：
Rashkovich, LN;Shustin, OA;Chernevich, TG
通讯作者：
Chernevich, TG
影响因子：
1.8
作者：
Yang Shangfeng;Su Genbo;Tang Jing;Mao Bing-wei;Wu Jianmin;Li Zhengdong
通讯作者：
Yang Shangfeng;Su Genbo;Tang Jing;Mao Bing-wei;Wu Jianmin;Li Zhengdong