Ionic liquid ion sources for silicon reactive machining
Ionic liquid ion sources for silicon reactive machining
复制标题
用于硅反应加工的离子液体离子源
DOI：
10.1016/j.mee.2010.12.037
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发表时间：
2011
影响因子：
2.3
通讯作者：
J. Giérak
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Guilet;C. Perez;P. Jégou;P. Lozano;J. Giérak
