スパッタ成膜中に基板へ照射されるイオンの抑制をした ZnO 薄膜の形成と圧電性への影響
スパッタ成膜中に基板へ照射されるイオンの抑制をした ZnO 薄膜の形成と圧電性への影響
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溅射沉积过程中抑制离子照射基底的ZnO薄膜的形成及其对压电性的影响
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
柳谷隆彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
富永浩平;髙柳真司;柳谷隆彦
