Optical confinement in CdTe-based photonic dots
Optical confinement in CdTe-based photonic dots
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CdTe 基光子点中的光学限制
DOI：
10.1063/1.1452792
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发表时间：
2002
影响因子：
4
通讯作者：
L. S. Dang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Obert;B. Wild;G. Bacher;A. Forchel;R. André;L. S. Dang
我们展示了三维光限制在CdTe基微腔。虽然垂直的限制是由外延生长的CdMnTe/CdMgTe布拉格反射镜，横向限制是通过定义电子束光刻和反应离子蚀刻的支柱结构实现的。光限制由基本和更高的光子模式之间的尺寸依赖的能量分裂。
We demonstrate three-dimensional optical confinement in CdTe-based microcavities. While the vertical confinement is determined by epitaxially grown CdMnTe/CdMgTe Bragg mirrors, the lateral confinement is achieved by defining pillar structures with electron beam lithography and reactive ion etching. The optical confinement is shown by a size-dependent energy splitting between the fundamental and higher photonic modes.