An X-Ray Spectrometer for Pixel Analysis of Art Objects
An X-Ray Spectrometer for Pixel Analysis of Art Objects
复制标题
用于艺术品像素分析的 X 射线光谱仪
DOI：
10.1154/s0376030800013215
复制
发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
F. Mairinger
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Mantler;M. Schreiner;F. Weber;Richard Ebner;F. Mairinger
已经设计了一台x射线光谱仪，用于沿着线条或跨越绘画和其他艺术品的选定区域进行逐个像素的分析。特征技术数据为：0.8 mm 2像素大小，800 mm(Vert.)乘以1000 mm(水平)通过200 mm(垂直于物体)运动距离，系统定位精度±20um，最大物体尺寸2x3m(垂直安装)；2.8kW X射线管；硅(锂)探测器。PC用于仪器控制和新的、复杂的数据评估软件。
An x-ray spectrometer has been designed for pixel by pixel analysis along lines or across selected areas of paintings and other art-objects. Characteristic technical data are: 0.8mm 2 pixel size, 800mm (vert.) by 1000mm (horiz.) by 200 mm (perpendicularly to object) motion distances, ±20mum precision in positioning the system, 2x3m maximum object size (mounted vertically); 2.8kW x-ray tube; Si(Li) detector. PC's are used for instrument control and new, complex data evaulation software.