Fabrication of nanoporous templates from diblock copolymer thin films on alkylchlorosilane-neutralized surfaces.
Fabrication of nanoporous templates from diblock copolymer thin films on alkylchlorosilane-neutralized surfaces.
复制标题
在烷基氯硅烷中和的表面上用二嵌段共聚物薄膜制造纳米多孔模板。
DOI：
10.1021/la062594a
复制
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S. Baker
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Niemz;K. Bandyopadhyay;Eric Tan;Ki;S. Baker
从聚（苯乙烯）-b-聚（甲基丙烯酸甲酯）二嵌段共聚物薄膜（PS-b-PMMA，体积比70：30）在硅上的纳米多孔模板的制造需要精确控制界面能，以实现PMMA圆柱形微区相对于衬底的垂直取向。为了提供一种简单，快速，但可调的表面中和方法，我们研究了PS-b-PMMA二嵌段共聚物薄膜在用十八烷基二甲基氯硅烷（ODMS）部分单层改性的硅基底上的自组装有序性，即，接枝密度小于最大可能单层表面覆盖率的ODMS层。我们在此展示了在这些部分ODMS自组装膜上从退火的PS-b-PMMA二嵌段共聚物薄膜制备纳米多孔PS模板。
The fabrication of nanoporous templates from poly(styrene)-b-poly(methyl methacrylate) diblock copolymer thin films (PS-b-PMMA, volume ratio 70:30) on silicon requires precise control of interfacial energies to achieve a perpendicular orientation of the PMMA cylindrical microdomains relative to the substrate. To provide a simple, rapid, yet tunable approach for surface neutralization, we investigated the self-assembled ordering of PS-b-PMMA diblock copolymer thin films on silicon substrates modified with a partial monolayer of octadecyldimethyl chlorosilane (ODMS), i.e., a layer of ODMS with a grafting density less than the maximum possible monolayer surface coverage. We demonstrate herein the fabrication of nanoporous PS templates from annealed PS-b-PMMA diblock copolymer thin films on these partial ODMS SAMs.