Dust formation in Ar/CH4 and Ar/C2H2 plasmas
Dust formation in Ar/CH4 and Ar/C2H2 plasmas
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Ar/CH4 和 Ar/C2H2 等离子体中的粉尘形成
DOI：
10.1088/0963-0252/18/3/034010
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发表时间：
2009
影响因子：
3.8
通讯作者：
O. Stepanović
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
J. Winter;J. Berndt;S;E. Kovačević;I. Stefanović;O. Stepanović
本文讨论了在碳氢化合物气体中操作的电容和电感耦合射频等离子体中纳米颗粒的生长以及颗粒对等离子体特性的逆反应。重点是含 CH4 和 C2H2 等离子体的生长机制、原子氢的作用以及脉冲等离子体中粒子的动态充电和放电。
This paper discusses the growth of nanoparticles in capacitively and inductively coupled radio-frequency plasmas operated in hydrocarbon gases and the back-reaction of particles on the plasma properties. The focus is on the growth mechanism in CH4- and C2H2-containing plasmas, on the role of atomic hydrogen and on the dynamic charging and decharging of particles in pulsed plasmas.