THERMAL REACTIVE ION ETCHING OF TI, TA, MO AND NB WITH SF6 PLASMA
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复制标题
SF6 等离子体热反应离子刻蚀 TI、TA、MO 和 NB
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takashi Abe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Gang Han;Yuki Murata;Yuto Minami;Masayuki Sohgawa;Takashi Abe
