RFバイアススパッタ法により作製したAl-O-N膜の構造と特性
RFバイアススパッタ法により作製したAl-O-N膜の構造と特性
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射频偏压溅射法制备Al-O-N薄膜的结构与性能
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他3名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
野瀬正照、佐伯淳、松田健二、寺山清志、池野進;他3名
