K.Hamamoto, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Hada, N.Hishinuma, H.Sugahara, H.Kinoshita: "Cleaning of EUVL masks and optics using 172-nm and 13.5-nm radiatio"Japan, Journal, Applied, Physics. (発表予定).

K.Hamamoto、T.Watanabe、N.Sakaya、M.Hosoya、T.Shoki、H.Hada、N.Hishinuma、H.Sugahara、H.Kinoshita：“使用 172 nm 和 13.5-nm 清洁 EUVL 掩模和光学器件纳米辐射”日本，杂志，应用，物理。（待出版）。