Characterization of a pentacene thin-film transistor with a HfO 2/Al2O3 gate insulator

Characterization of a pentacene thin-film transistor with a HfO 2/Al2O3 gate insulator
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具有 HfO 2/Al2O3 栅极绝缘体的并五苯薄膜晶体管的表征

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
M. Cho
M. Cho
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
H. J. Kim;S. Kang;Dambi Park;K. Chung;M. Noh;C. Whang;M. Cho

文献摘要

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