Ce添加に伴うSi:Ce薄膜の表面平坦化
Ce添加に伴うSi:Ce薄膜の表面平坦化
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Ce 添加导致 Si:Ce 薄膜表面平坦化
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
進藤大輔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D.Shindo;K.Fujii;T.Terao;S.Sakurai;S.Mori;K.Kurushima;N.Fujimura;進藤大輔
