High Quality Silicon Nitride Film Formed by Microwave-Excited Plasma Enhanced Chemical Vaspor Deposition with Dual Gas Shower Head
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双气体喷头微波激发等离子体增强化学气相沉积形成高质量氮化硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Ohmi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Tanaka;Z.Chuanjie;Y.Hayakawa;M.Hirayama;A.Teramoto;S.Sugawa;T.Ohmi
