Development of Accurate Prediction Technology of Material Removal Rate Distribution in Planarization CMP
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平坦化CMP材料去除率分布精确预测技术的开发
DOI：
10.2493/jjspe.84.221
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发表时间：
2018
影响因子：
--
通讯作者：
Y. Hashimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Suzuki;Y. Hashimoto
