A liquid-xenon-jet laser-plasma X-ray and EUV source
A liquid-xenon-jet laser-plasma X-ray and EUV source
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DOI：
10.1016/s0167-9317(00)00401-9
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发表时间：
2000-06-01
影响因子：
2.3
通讯作者：
Hertz, HM
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hansson, BAM;Rymell, L;Hertz, HM
我们描述了一种基于低温氙液体射流靶的激光等离子体软 X 射线源。该光源适用于极紫外 (EUV) 投影光刻和邻近 X 射线光刻 (PXL)。使用独立式透射光栅和 CCD 探测器获得 1-2 nm 范围内的绝对校准光谱和 9-15 nm 范围内的未校准光谱。
We describe a laser-plasma soft-x-ray source based on a cryogenic-xenon liquid-jet target. The source is suitable for extreme ultraviolet (EUV) projection lithography and proximity x-ray lithography (PXL). Absolute calibrated spectra in the 1-2 nm range and uncalibrated spectra in the 9-15 nm range are obtained using a free-standing transmission grating and a CCD-detector.