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Kinetics of Plasma Sintering of Ceramic Materials

Kinetics of Plasma Sintering of Ceramic Materials
陶瓷材料等离子烧结动力学
批准号：
8612895
负责人：
Kamleshwar Upadhya
金额：
$3.0万
依托单位：
University of Illinois at Chicago
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1986
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1986-07-01 至 1987-12-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8612895&HistoricalAwards=false
关键词：
KineticsPlasmaSinteringCeramicMaterials

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
陶瓷越来越多地被考虑用于高温 结构应用，如轴承表面和切割工具。 目前的限制是强度和断裂韧性。 这 项目探索了一种新的技术，即等离子烧结陶瓷， 特别是SiC和Si3N4。
英文摘要
Ceramics are being considered increasingly for high temperature structural applications, as bearing surfaces and as cutting toolds. The current limitations are strength and fracture toughness. This project explores a novel technique, namely, plasm sintering ceramics, in particular of SiC and Si3 N4.
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旁轴式plasma-pulsed MIG复合焊电弧、熔滴、贯穿小孔和熔池的耦合机理
  • 批准号：
    52105324
  • 项目类别：
    青年科学基金项目（C类）
  • 资助金额：
    30.0万元
  • 批准年份：
    2021
  • 负责人：
    吴东升
  • 依托单位：
    广东工业大学
Probing quark gluon plasma by heavy quarks in heavy-ion collisions
  • 批准号：
    11805087
  • 项目类别：
    青年科学基金项目
  • 资助金额：
    30.0万元
  • 批准年份：
    2018
  • 负责人：
    Santosh Kumar
  • 依托单位：
    兰州大学