universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten

Eine konkurrenzfähige und erfolgreiche Forschung erfordert zwingend eine Ausrüstung，die dem gegenwärtigen Stand der Technik entspricht - insbesondere in einem konkurrenzstarken Forschungsgebiet wie der abundant relevanten photoelectronischen und optoelektronischen Materialforschung.在卡尔斯鲁厄技术研究所（KIT）的三个工作组中，溅射法的应用是最好的韦尔登，因此，它可以使（z. B。Kontakte）als auch nichtleitende Schichten（z. B。Dielektrika für Antireflexschichten）in versedensten Ausführungen und für different Anwendungen（siehe Anhänge）in ausreichender Qualität kostengünstig und selbständig ohne hinderliche externe Abhängigkeiten herzustellen，um einen raschen Fortschritt der entsprechenden Forschungsprojekte zu gewährleisten.

Eine konkurrenzfähige und erfolgreiche Forschung erfordert zwingend eine Ausrüstung, die dem gegenwärtigen Stand der Technik entspricht - insbesondere in einem konkurrenzstarken Forschungsgebiet wie der hier relevanten photovoltaischen und optoelektronischen Materialforschung. Mit der beantragten Sputteranlage soll es zukünftig in den drei an der Ausschreibung beteiligten Arbeitsgruppen des Karlsruher Instituts für Technologie (KIT) ermöglicht werden, sowohl leitende (z. B. Kontakte) als auch nichtleitende Schichten (z. B. Dielektrika für Antireflexschichten) in verschiedensten Ausführungen und für diverse Anwendungen (siehe Anhänge) in ausreichender Qualität kostengünstig und selbständig ohne hinderliche externe Abhängigkeiten herzustellen, um einen raschen Fortschritt der entsprechenden Forschungsprojekte zu gewährleisten.