UHV-Ambient Pressure Infrared Reflection Absorption Spectroscopy Facility

在Einem Breiten Druckbereich-von Ultrahochvakuum-(UHV)bi zur and wendungsRelationanten Bedingungen-ist eine Ausweitung De Excententellen Kapazitäten im Bereich der SchwingungsSpektroskopie and Gathasenanalytik Underendik undeententellen en Kapazitäten im Bereich der SchwingungsSpektroskopie and Gathasenanalytik undesteentellen en SchwingungsSpektroskopie and Gathasenanalytik undetin nodedit noendedik中，我们不能理解和理解Komplexen纳米结构和模型。这是一个定义为PM-IRA和kontrollierten kintitischen and dyischen Messunchen Messungen mittels Polarisations-Modulation-Infrarot-Spektroskopie(PM-IRAS)和动态信息传递(MITTELLING)的过程。Ususätzlich UFasst Diplatur eich Reihe on In-Site Präparations-and CharakterisiererungsMethoden für Oxid-Basierten Moell-Katalysat oroberfläChen，Under Under Underten UHV Bedingungen dch den den epecaktischen Wachstum auf f Metalleinkristallen Präpariert wachstum auf f Metalleinkristallen Präpariert Wrätzlich UFasst Diapparatur eine von In-Site Präparations-and CharakterisierungsMethoden für Oxid-Basierten Moell-Katalysat oroberfläChen，dh whl-finierten UHV Bedingungen dch den en epecaktischen Wachstum auf f f Metalleinkristallen Präpariert。从10E-10到1000 mbar，我们将会找到一种新的技术和技术，以此为基础来为经济和社会发展服务。这是一种新的实验方法与方法的结合，它是一种新的化学分析方法，也是一种新的化学方法。

Zur Untersuchung der Reaktionsmechanismen und -kinetik an komplexen nanostrukturierten Modelloberflächen in einem breiten Druckbereich – von Ultrahochvakuum- (UHV) bis zur anwendungsrelevanten Bedingungen – ist eine Ausweitung der experimentellen Kapazitäten im Bereich der Schwingungsspektroskopie und Gasphasenanalytik unbedingt notwendig. Das beantragte UHV Gerät wird eine Kombination aus den schwingungsspektroskopischen Untersuchungen an wohl-definierten Grenzflächen mittels Polarisations-Modulation-Infrarot-Spektroskopie (PM-IRAS) und kontrollierten kinetischen und dynamischen Messungen mittels Molekularstrahlmethoden und Quadrupol-Massenspektrometrie erlauben. Zusätzlich umfasst diese Apparatur eine Reihe von in-situ Präparations- und Charakterisierungsmethoden für oxid-basierten Modell-Katalysatoroberflächen, die unter wohl-definierten UHV Bedingungen durch den epitaktischen Wachstum auf Metalleinkristallen präpariert werden. Dieses Gerät wird die die Durchführung kinetischer und spektroskopischer Studien im breiten Druckbereich von 10E-10 bis zu 1000 mbar an identischen Modellkatalysatoroberflächen erlauben und somit den Einfluss der Druck- und Reaktionsbedingungen auf die Reaktivität und auf die reaktioninduzierte Änderungen der Oberflächenstruktur zu studieren. Diese Kombination der experimentellen Methoden wird es erlauben, einen wichtigen Beitrag zum atomistischen Verständnis heterogenkatalysierter chemischer Prozessen, sowohl unter UHV als auch unter anwendungsnahen Bedingungen, zu liefern.