新規高融点ガラスを用いたRPLイメージングプレート材料の開発
新規高融点ガラスを用いたRPLイメージングプレート材料の開発
使用新型高熔点玻璃开发RPL成像板材料
批准号：
24KJ1699
负责人：
西川 晃弘
金额：
$1.54万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-04-23 至 2027-03-31
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