Lithographiesystem

光刻师Herstellung von Electrktronischen Bauelementen and Schaltongen，Sensoren，MEMS oder Kontakten zu Nanoskopischen Qutensystem unabdingbar。这是一种全新的光刻技术，它可以在世界各地推广应用。这是一件非常重要的事情。他是耶多克的救世主，也是最好的。Zudem is sehr unfleibel and führt immer wieder zu mehrwöchigen Unterbrechungen der Projektarbeiten.这是一种灵活的死亡方式，相信更大的信仰者。最大误差为600 nm。在我们的纳米技术中，我们使用的是电子束和光刻机。Das beantragte Gerät kombiniert die Hochauflösende Fotolithgraph MIT der Nano Liopetie，um Bauelemente Auchfür Nano Technologie Herstellen zu können.AFM-Basierte Lithografie，entwickelt an der Universityät Ilmenau，kann in den einstelligen Nanometerbereich vordringen.我们将用AFM-SPITZE-SPITZE ALS Elektronenenet Genutzt，and Kann n so kontaktfrei i polymere strukturieren.Strukturen Sollen的Zur sofortigen Kontrolle-Geräte im Reinraum zusammen MIT einem Raster-Elektronenmikroskop berieben。

Lithographie ist für die Herstellung von elektronischen Bauelementen und Schaltungen, Sensoren, MEMS oder Kontakten zu nanoskopischen Quantensystemen unabdingbar. Die am Institut genutzte Fotolithographie beruht bisher auf der Verwendung von Muttermasken. Die benötigten Muttermasken werden durch Fremdfirmen gefertigt. Dieses Verfahren ist jedoch aufwendig und sehr zeitraubend. Zudem ist es sehr unflexibel und führt immer wieder zu mehrwöchigen Unterbrechungen der Projektarbeiten. Das beantragte Gerät ermöglicht die flexible, maskenlose Belichtung beliebiger Strukturen. Die maximal erreichbare Auflösung einer Standard-Fotolithographie beträgt zudem nur 600 nm. Um in den Nanometerbereich vorzurücken, muss die Lithographie mittels E-beam oder einer AFM-basierten Technik erweitert werden. Das beantragte Gerät kombiniert die hochauflösende Fotolithographie mit der Nanolithographie, um Bauelemente auch für Nanotechnologie herstellen zu können. AFM-basierte Lithografie, entwickelt an der Universität Ilmenau, kann in den einstelligen Nanometerbereich vordringen. Dabei wird die AFM-Spitze als Elektronenemitter genutzt, und kann so kontaktfrei Polymere strukturieren. Zur sofortigen Kontrolle der Strukturen sollen die Lithographie-Geräte im Reinraum zusammen mit einem Raster-Elektronenmikroskop betrieben werden.