Beschichtungsanlage

模具beantragte Beschichtungsanlage CC800®/9 HPPMS ermöglicht es erstmalig grundlegendeUntersuchungen zu Hybridprozessen auf der Basis der Beschichtungsprozesse mip -PVD（磁控溅射离子镀-物理气相沉积），PACVD（等离子体活化化学气相沉积），AIP-PVD（电弧离子镀-PVD）和plasmanitrien durchzufhren。in Rahmender Untersuchungen können damit haftfeste und reibungsminderden Schichten entwickelt werdenund somit zur Steigerung deswerkungsgredsvon Tribosystemen ingesetzt werden。PVD、PACVD与等离子体动力学的结合与应用：混合动力学与光学技术的结合，光学技术的结合，光学技术的结合；光学技术的结合，光学技术的结合；光学技术的结合，光学技术的结合；光学技术的结合，光学技术的结合；几何技术的结合，光学技术的结合，光学技术的结合；几何技术的结合，光学技术的结合，光学技术的结合。新技术与新技术的研究进展。高功率脉冲磁控溅射技术（hppms - technology，高功率脉冲磁控溅射技术）与CC800®/9HPPMS分析仪的研究Die CC800®/9 HPPMS anage ermöglicht weltweit einzigartig die组合der HPPMS technology mit den Plasma gestten PACVD and PVDBeschichtungsprozessen。在等离子体动力学研究中，疾病分析对Spitzenstellung的影响。

Die beantragte Beschichtungsanlage CC800®/9 HPPMS ermöglicht es erstmalig grundlegendeUntersuchungen zu Hybridprozessen auf der Basis der Beschichtungsprozesse MSIP-PVD(Magnetron Sputter Ion Plating –Physical Vapor Deposition), PACVD (Plasma Activated ChemicalVapor Deposition), AIP-PVD (Arc Ion Plating - PVD) und Plasmanitrieren durchzuführen. Im Rahmender Untersuchungen können damit haftfeste und reibungsmindernden Schichten entwickelt werdenund somit zur Steigerung des Wirkungsgrads von Tribosystemen eingesetzt werden. EineKombination der Prozesse PVD, PACVD und Plasmanitrieren in einem Hybridprozess ist nicht nur austechnischer, sondern auch aus wirtschaftlicher Sicht für die Beschichtung von hoch beanspruchtenBauteilen mit aufwendigen Geometrien die beste Wahl und eröffnet damit neue Forschungsfelder. DieEntwicklung von neuartigen Verschleiß mindernden Schichtsystemen erfordert neuesteProzesstechnologien. Der aktuelle Trend zur Weiterentwicklung der mittelfrequenten Pulstechnologiehin zur HPPMS-Technologie (High Power Pulsed Magnetron Sputtering) wird mit der CC800®/9HPPMS Anlage aufgegriffen. Die CC800®/9 HPPMS Anlage ermöglicht weltweit einzigartig dieKombination der HPPMS Technologie mit den Plasma gestützten PACVD und PVDBeschichtungsprozessen. Diese Anlage erlaubt damit eine Spitzenstellung in der Erforschung vonPlasmaprozessen einzunehmen.