Überstrukturbildung ligandstabilisierter Halbleiter- und Metallnanocluster durch elektrostatische und kovalente Verknüpfung

In diesem forschungsvoorhaben sollen Halbleiter and metalnanocluster and baustein f<s:1> r geordnete Überstrukturen verwendet werden。1 .研究对象为实验对象，研究对象为组织簇，研究对象为组织簇，研究对象为组织簇，研究对象为组织簇，研究对象为组织簇，研究对象为化学修饰，研究对象为结构，研究对象为电子，研究对象为电子，研究对象为电子，研究对象为电子。durch kovalente verbr<s:1> ckung der Liganden ermöglichen。Hierdurch sollte eine größere vilelfalt, Selektivität and Stabilität der erzeugten Strukturen möglich sein。Neben der Präparation der Clusteranordnungen stet die fragage nach der electrononischen wehselwirkung der Cluster undereinder der Clusterkerne mitden Liganden in vorderground der undersuchungen。大足太阳能吸收率和紫外荧光光谱研究在室温和15k左右的条件下进行。平行索伦量子力学研究与应用Subbändern [j]。二极子-二极子-二极子-二极子-二极子-二极子-二极子-二极子-二极子-二极子-二极子-二极子-二极子。[3] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1]

In diesem Forschungsvorhaben sollen Halbleiter- und Metallnanocluster als Bausteine für geordnete Überstrukturen verwendet werden. Im Gegensatz zu den meisten bisher beschriebenen Experimenten, bei denen nur relativ schwache van-der-Waals-Wechselwirkungen zur Selbstorganisation der Cluster zu größeren Einheiten führten, soll hier die geeignete chemische Modifizierung der Liganden den Aufbau von Überstrukturen durch elektrostatische Wechselwirkung bzw. durch kovalente Verbrückung der Liganden ermöglichen. Hierdurch sollte eine größere Vielfalt, Selektivität und Stabilität der erzeugten Strukturen möglich sein. Neben der Präparation der Clusteranordnungen steht die Frage nach der elektronischen Wechselwirkung der Cluster untereinander sowie der Clusterkerne mit den Liganden im Vordergrund der Untersuchungen. Dazu sollen Absorptions- und Fluoreszenzspektren vom UV bis in den NIR-Bereich zwischen Raumtemperatur und ca. 15 K erfolgen. Parallel sollen quantenmechanische Rechnungen zur Entstehung von Subbändern bzw. zur Dipol-Dipol-Wechselwirkung erstellt und mit den experimentellen Ergebnissen verglichen werden. Zur Charakterisierung der Clusterstrukturen sollen transmissionselektronenmikroskopische, pulverröntgendiffraktometrische und infrarotspektroskopische Messungen durchgeführt werden.